14 nanómetros

Procesos de fabricación de semiconductores
10.000 nm – 1971 3.000 nm – 1975 1.500 nm – 1982 1.000 nm – 1985 800 nm – 1989 600 nm – 1994 350 nm – 1995 250 nm – 1997 180 nm – 1999 130 nm – 2002 90 nm – 2004 65 nm – 2006 45 nm – 2008 32 nm – 2010 22 nm – 2012 14 nm – 2014 10 nm – 2016 7 nm – 2018 5 nm – 2020

14 nanómetros (14nm) es la tecnología de fabricación de semiconductores, en la que los componentes están fabricados en una 14 milmillonésima parte de un metro.​​​

Visión general

Actualmente, su uso está planificado para ser destinado sobre todo, a la fabricación microprocesadores CMOS, siguiendo de acuerdo al ITRS (En Inglés International Technology Roadmap for Semiconductors).

Proyección del escalado CMOS de acuerdo al International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS).

Microprocesadores

Familia Intel

• Broadwell
• Intel Atom Z2580​
• Skylake (microarquitectura)

Familia AMD

• Zen (microarquitectura)
• AMD Radeon 400 series
• AMD Radeon 500 series

Nvidia

• Nvidia Geforce 10 series (GT 1030, GTX 1050, GTX 1050Ti)

Historia

• En el año 2005, Toshiba demuestra una longitud de puerta de 15 a 10 nm, usando un proceso espaciador lateral.​

Predecesor

22 nanómetros (22nm) era la anterior tecnología de fabricación de semiconductores.

Sucesor

10 nanómetros (10nm) será la tecnología que sustituya a los 14nm como la tecnología de fabricación de semiconductores.

Enlaces externos

• www.itrs.net Sitio oficial (en inglés)

Referencias

• Datos: Q2750603