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La Deposición Química de Vapor o CVD (de sus siglas en inglés Chemical Vapor Deposition) es un proceso químico utilizado para producir productos de alta…23 kB (3001 palabras) - 17:06 19 dic 2023- Radical Enhanced Atomic Layer Chemical Vapor Deposition (REAL-CVD) of TiN". NCCAVS. Potts, S.E.; Kessels, W.M.M. (December 2013). «Energy-enhanced atomic…57 kB (6830 palabras) - 03:46 12 abr 2024
- ; Lee, C. S. (2001). «SrTa2O6 Thin Films Deposited By Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition». Jpn. J. Appl. Phys. 40 (12): 6941-6944. Bibcode:2001JaJAP…16 kB (1905 palabras) - 11:13 26 dic 2023
deposita generalmente usando el proceso denominado PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) de un precursor de gas silano (SiH4) para producir una…18 kB (2726 palabras) - 11:46 20 dic 2023
obtenidos son lisos y sin estructura anular reconocible. P.C.V.D (Plasma Chemical Vapor Deposition) Es desarrollado por la empresa neerlandesa Philips y se caracteriza…55 kB (7788 palabras) - 11:03 10 may 2024
