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Un plasma inductivamente acoplado (ICP) es un tipo de plasma en el cual la energía es suministrada por corrientes eléctricas que son producidas mediante inducción electromagnética, esto es, mediante campos magnéticos variables.[1]
Operación[editar]
Existen tres tipos de geometrías de ICP: planar (Fig. 2 (a)), cilindrica[2] (Fig. 2 (b)), y medio toroide (Fig. 2 (c)).[3]
En la geometría planar, el electrodo es una tira de material plano doblado en una espiral (o bobina). En la geometría cilindrica, es un resorte helicoidal. En la geometría de medio toriode, it is toroidal solenoid cut along its main diameter to two equal halves.
Cuando una corriente electrica dependiente del tiempo pasa a traves de un alambre, esta crea un campo magnetico dependiente del tiempo alrededor del alambre, que a su vez genera campos electricos azimutales en el gas When a time-varying electric current is passed through the coil, it creates a time-varying magnetic field around it, which in turn induces azimuthal electric field in the rarefied gas, leading to the formation of the figure-8 electron trajectories[3] providing a plasma generation (see Hamilton-Jacobi equation in electromagnetic fields). Argon is one example of a commonly used rarefied gas.
Aplicaciones[editar]
La temperatura del plasma varia entre ~6 000 Kº y ~10 000 Kº (~6 eV - ~100 eV),[3] comparable con la temperatura de la superficie solar. Las descargas de ICP poseen una relativamente alta densidad electrónica, en el orden de 1015 cm−3. Como resultado, las descargas de ICP tienen aplicaciones donde un plasma de alta densidad es requerido.
- ICP-AES, un tipo de espectroscopía de emisión atómica.
- ICP-MS, un tipo de espectrometría de masas.
- ICP-RIE, a type of reactive-ion etching.
Otros beneficio del ICP es que es relativamente libre de contaminación debido a que los electrodos se encuentran completamente fuera de la camara de reacción. En contraste, en un plasma capacitivamente acoplado capacitively coupled plasma (CCP), los lectrodos se encuentran frecuentemente colocados dentro del reactor y por tanto sson expuestos al plasma y especies químicas reactivas.
See also[editar]
References[editar]
- ↑ A. Montaser and D. W. Golightly, eds. Inductively Coupled Plasmas in Analytical Atomic Spectrometry, VCH Publishers, Inc., New York, 1992.
- ↑ Pascal Chambert and Nicholas Braithwaite. Cambridge University Press, Cambridge (2011). pp. 219-259. ISBN 978-0521-76300-4. Falta el
|título=(ayuda) - ↑ a b c Shun'ko, Evgeny V.; Stevenson, David E.; Belkin, Veniamin S. (2014). «Inductively Coupling PlasmaReactor With Plasma Electron Energy Controllable in the Range From ~6 to ~100 eV». IEEE Transactions on Plasma Science 42 (3): 774-785. ISSN 0093-3813. doi:10.1109/TPS.2014.2299954.
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