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- Naulleau, Patrick (31 de diciembre de 2009). «Corner rounding in EUV photoresist: tuning through molecular weight, PAG size, and development time» – via…117 kB (13 778 palabras) - 19:06 30 ene 2024
- obleas .El anterior proceso se denomina fotoresist negativo (negative photoresist). Para completar la resistencia, los cables se sueldan a cada extremo…43 kB (6154 palabras) - 17:50 21 abr 2024