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    High-Resolution Three-Dimensional Nanostructures in Arsenic Sulfide All-Inorganic Photoresist». Chemistry of Materials (American Chemical Society (ACS)) 19 (17): 4213-4221…
    13 kB (1528 palabras) - 07:00 23 ene 2024
  • Miniatura para Litografía ultravioleta extrema
    Naulleau, Patrick (31 de diciembre de 2009). «Corner rounding in EUV photoresist: tuning through molecular weight, PAG size, and development time» – via…
    117 kB (13 778 palabras) - 19:06 30 ene 2024
  • obleas .El anterior proceso se denomina fotoresist negativo (negative photoresist). Para completar la resistencia, los cables se sueldan a cada extremo…
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