Discusión:Litografía ultravioleta extrema
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Litografía ultravioleta extrema fue un candidato a artículo bueno, pero no reunió los criterios necesarios en aquel momento. Una vez que las objeciones formuladas se hayan solucionado, se puede volver a presentar su candidatura. Historial de eventos para este artículo
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Comentario SAB[editar]
Esto no es una revisión de artículo bueno, simplemente es un comentario. Me parece que habría que mejorar el estilo de las referencias de este artículo. Hay bastantes referencias que solamente pone el título, sin indicar autor, fecha o publicación. En algunas pone la url directamente y en otra pone “Copia archivada” que evidentemente no es el título del documento citado. Creo que esto se debería mejorar. --IngenieroLoco (discusión) 11:20 16 may 2020 (UTC)
- Gracias por la observación, lo corregiré! --
José Furtado (discusión) 22:07 16 may 2020 (UTC)
Revisón SAB[editar]
Voy a reprobar el artículo. Creo que tiene bastante potencial, pero antes tiene que corregirse varias cosas. Principalmente el tema de las referencias deben tener el formato adecuado, también faltan agregar fuentes en algunos párrafos. Hay veces que se usa fuente como escrito por ejemplo: Fuente: Gigaphoton, Sematech Symposium Japan, 15 de septiembre de 2010. En ese caso sería preferible colocar en tamaño pequeño <small>Fuente:</small> verás que te saldrá Fuente: y luego citar con la fuente siguiendo el formato que puedes verificar aquí. Te recomiendo leerlo y seguirlo al pie. Más abajo se usa Fuente: Semicon West 2017, IBM que se encuentra en cursiva, en realidad solo la publicación debería ir en cursiva y fuente no ni la fecha. Para esto sería preferible ver el manual de estilo. Podrás ver que en el manual te explica la forma de usar los números ya que se usa muchos en el artículo por el tema y sigue lo que te indica. Ahora hay errores ortográficos que deben ser corregidos por ejemplo en la introducción: Herramientas de producción de EUV; Se expusieron. Aquí hay un punto y coma y luego la siguiente palabra es en mayúscula. Otro caso más es: (los escáneres EUV de ASML pueden costar hasta US $120 millones89). Hay referencia que debería ir afuera del paréntesis y después de la coma y la cifra de los millones dólares debe ir según el manual de estilo. Si hay alguna duda sobre algo no dudes en consultarme y te puedo ayudar. Creo que solucionado todos esos problemas puede ser nominado y quedará listo para alguna distinción. Saludos. Irwin キリト 15:28 20 may 2020 (UTC)
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{{dead link}}a https://spcc2016.com/wp-content/uploads/2016/04/03-12-Hu-SPM-Strip-of-Metal-Oxide-PR.pdf - Se añadió el archivo https://web.archive.org/web/20161220172123/http://staticwww.asml.com/doclib/investor/investor_day/asml_20161031_04_Investor_Day_2016_EUV_and_its_Business_Opportunity_HMeiling.pdf a http://staticwww.asml.com/doclib/investor/investor_day/asml_20161031_04_Investor_Day_2016_EUV_and_its_Business_Opportunity_HMeiling.pdf
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- Se añadió el archivo https://web.archive.org/web/20181205191839/https://www.asml.com/products/systems/twinscan-nxt/twinscan-nxt1980di/en/s46772?dfp_product_id=10567 a https://www.asml.com/products/systems/twinscan-nxt/twinscan-nxt1980di/en/s46772?dfp_product_id=10567
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