Archivo:80 eV electron blur in EUV Resist.png
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Resumen
| Descripción |
English: The exposure of a leading EUV chemically amplified resist by an 80 eV flood electron beam can lead to resist thickness loss up to ~7.5 nm. The 80 eV represents typical EUV photoelectron energy, so resist dimensions requiring control to within ~15 nm would be affected. Ref.: Y. Kandel et al., Proc. SPIE 10143, 101430B (2017). |
| Fecha | |
| Fuente | Graphic editor |
| Autor | Guiding light |
Licencia
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| Fecha y hora | Dimensiones | Usuario | Comentario |
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| 2017-06-09 01:47 | 480×284× (8276 bytes) | Guiding light | |
| 2017-06-09 01:21 | 889×584× (53304 bytes) | Guiding light | Uploading a self-made file using [[Wikipedia:File_Upload_Wizard|File Upload Wizard]] |
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| actual | 16:00 17 nov 2018 | | 480 × 284 (8 kB) | OgreBot | (BOT): Reverting to most recent version before archival |
| 16:00 17 nov 2018 |  | 889 × 584 (52 kB) | OgreBot | (BOT): Uploading old version of file from en.wikipedia; originally uploaded on 2017-06-09 01:21:03 by Guiding light | |
| 08:25 17 nov 2018 |  | 480 × 284 (8 kB) | Tn4196 | Transferred from en.wikipedia via #commonshelper |
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