Archivo:7nm node metal pattern shifts through EUV focus.png
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Resumen
| Descripción |
English: A metal layer targeting 16 nm CD patterned with EUV SMO single exposure is able to have a 100 nm CD 200 nm pitch overlay mark more in line with the 16 nm half-pitch metal lines, but not every feature in the same layer is easily captured within +/-1 nm shift over +/- 40 nm focus window. Ref.: W. Gillijns et al., Proc. SPIE vol. 10143, 1014314 (2017). |
| Fecha | |
| Fuente | Excel |
| Autor | Guiding light |
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| Fecha y hora | Dimensiones | Usuario | Comentario |
|---|---|---|---|
| 11:38, 11 July 2017 | 514 × 267 (11,692 bytes) | w:en:Guiding light (discusión | contribs.) | |
| 03:27, 11 July 2017 | 514 × 267 (11,566 bytes) | w:en:Guiding light (discusión | contribs.) | Uploading a self-made file using [[Wikipedia:File_Upload_Wizard|File Upload Wizard]] |
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| Fecha y hora | Miniatura | Dimensiones | Usuario | Comentario | |
|---|---|---|---|---|---|
| actual | 03:52 11 oct 2018 | | 514 × 267 (11 kB) | OgreBot | (BOT): Reverting to most recent version before archival |
| 03:52 11 oct 2018 |  | 514 × 267 (11 kB) | OgreBot | (BOT): Uploading old version of file from en.wikipedia; originally uploaded on 2017-07-11 03:27:39 by Guiding light | |
| 23:39 9 oct 2018 |  | 514 × 267 (11 kB) | Arlene the bean | Transferred from en.wikipedia: see original upload log above |
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